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NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)可在多種領(lǐng)域中應(yīng)用NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)全面滿足科學(xué)研究，工藝級(jí)生產(chǎn)等多領(lǐng)域的應(yīng)用。*采用非接觸式100%標(biāo)定系統(tǒng)，對(duì)晶圓和掩膜沒有傷害，大大提高間隙精度非接觸式掩膜對(duì)準(zhǔn)機(jī)maskaligner適合各種電子元器件，包括半導(dǎo)體，LED,LD,MEMS，傳感器等。NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)主要是用于光刻膠曝光。光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正膠和負(fù)膠...

美國(guó)CARVER熱壓機(jī)的操作檢修和安裝調(diào)試安全規(guī)程美國(guó)CARVER熱壓機(jī)的操作檢修安全規(guī)程1、美國(guó)CARVER熱壓機(jī)操作人員上機(jī)前必須進(jìn)行崗前培訓(xùn)，熟悉壓機(jī)性能后，方可操作熱壓機(jī)2、美國(guó)CARVER熱壓機(jī)操作和檢修時(shí)，必須時(shí)刻注意安全，嚴(yán)禁在沒有安全保護(hù)情況下把手等異物放入熱壓機(jī)內(nèi)。3、嚴(yán)禁熱壓機(jī)帶病工作，運(yùn)行時(shí)發(fā)現(xiàn)故障要及時(shí)排除后，方可繼續(xù)使用。4、板件要放置在壓機(jī)油缸中間位置，嚴(yán)禁偏壓。如板件沒有放滿有效工作臺(tái)面，要用同厚度的板件墊滿，禁止懸空壓。5、經(jīng)常檢查液壓站、缸體...

德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等離子刻蝕物的處理一、德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)金屬表面去油污并清洗金屬表面常常會(huì)有油脂、油污等有機(jī)物及氧化層，在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、鍵合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子處理來得到*潔凈和無氧化層的表面。在這種情況下的等離子處理會(huì)產(chǎn)生以下效果：1.1灰化表面有機(jī)層表面會(huì)受到物理轟擊和化學(xué)處理（氧下圖）在真空和瞬時(shí)高溫狀態(tài)下，污染物部分蒸發(fā)污染物在高能量離子的沖擊下被擊碎并被真空泵抽出紫外輻射破壞污染物因?yàn)榈入x子處理每秒只能穿透幾...

不斷的突破Nanonex納米壓印光刻機(jī)的新技術(shù)Nanonex納米壓印光刻機(jī)工作原理和組成Nanonex納米壓印光刻機(jī)通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機(jī)的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠...

促進(jìn)MicroChem光刻膠研究開發(fā)和應(yīng)用MicroChem光刻膠是芯片制造過程中的關(guān)鍵材料，芯片制造要根據(jù)具體的版圖（物理設(shè)計(jì)，layout）設(shè)計(jì)出掩模板，然后通過光刻（光線通過掩模板，利用光刻膠對(duì)裸片襯底等產(chǎn)生影響）形成一層層的結(jié)構(gòu)，后形成3D立體電路結(jié)構(gòu)，從而產(chǎn)生Die（裸片）。工藝的發(fā)展，光刻機(jī)的發(fā)展，材料學(xué)的同步發(fā)展才能促進(jìn)摩爾定律的發(fā)展。MicroChem光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻...

NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)樣品應(yīng)用化學(xué)改性NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)主要應(yīng)用：石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。微電子產(chǎn)品的表面清洗：微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與...

NXQ4006光刻機(jī)工作過程詳細(xì)介紹1.打開NXQ4006光刻機(jī)電源開關(guān)，（右表板上標(biāo)有“電源”字的開關(guān)），燈亮，氣壓表顯示數(shù)值。此時(shí)檢查左表板上的“系統(tǒng)真空”表，看是否保持真空度≥-0.07MPa以上，否則要檢查漏氣原因并消除之。2.打開汞燈電源（左表板上標(biāo)有“汞燈”字樣的開關(guān)），指示燈亮。此時(shí)觀察電流表指針，直到指到4A左右，說明汞燈已點(diǎn)燃。zui少要15分鐘以后，汞燈亮度才能穩(wěn)定，操作者才能進(jìn)行以下工作。3.調(diào)節(jié)NXQ4006光刻機(jī)氣壓（左表板）觀察進(jìn)氣壓力，是否≥0....