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WABASH平板硫化機(jī)主要用于硫化平型膠帶（如輸送帶、傳動(dòng)帶，簡(jiǎn)稱(chēng)平帶），它具有熱板單位面積壓力大，設(shè)備操作可靠和維修量少等優(yōu)點(diǎn)。平板硫化機(jī)的主要功能是提供硫化所需的壓力和溫度。壓力由液壓系統(tǒng)通過(guò)液壓缸產(chǎn)生，溫度由加熱介質(zhì)（通常為蒸汽）所提供。平帶平板硫化機(jī)按機(jī)架的結(jié)構(gòu)形式主要可分為柱式平帶平板硫化機(jī)和框式平帶平板硫化機(jī)兩類(lèi)；按工作層數(shù)可有單層和雙層之分：按液壓系統(tǒng)工作介質(zhì)則可有油壓和水壓之分。WABASH平板硫化機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)時(shí)應(yīng)注意以下問(wèn)題：1、硫化機(jī)存放環(huán)境應(yīng)保持干燥、通...

德國(guó)Unitemp高溫退火爐主要用于高速鋼、冷熱模具鋼、不銹鋼、彈性合金、高溫合金、磁性材料和鈦合金的真空熱處理、真空釬焊和真空燒結(jié)?？焖偻嘶馉t結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：加熱室采用不銹鋼框架，隔熱罩為多層石墨氈，使用壽命長(zhǎng)，維護(hù)方便。采用石墨管加熱器，安裝維護(hù)方便，故障率低。德國(guó)Unitemp高溫退火爐的詳情：1、改善或消除鑄鋼、鍛、軋、焊等造成的各種結(jié)構(gòu)缺陷和殘余應(yīng)力，防止工件變形、開(kāi)裂。2、軟化工件進(jìn)行切削加工。3、細(xì)化晶粒，改善組織，提高工件的力學(xué)性能。4、為最終熱處理(淬火、回火)準(zhǔn)...

NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)是一種采用無(wú)接觸方式，在空氣中進(jìn)行且在清洗后不必進(jìn)行干燥。在清洗過(guò)程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，清洗通常包括以下過(guò)程:無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)，氣相物質(zhì)被吸附在固體表面，被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子，產(chǎn)物分子解析形成氣相，反應(yīng)殘余物脫離表面。NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)使用注意事項(xiàng)：1、嚴(yán)格按機(jī)器規(guī)定加工范圍內(nèi)加工木料，否則將導(dǎo)致機(jī)器損壞和工作人員傷害。2、本設(shè)備必須由經(jīng)過(guò)培訓(xùn)的...

德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng)，受磁場(chǎng)作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時(shí)會(huì)發(fā)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和刻蝕的效果。德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)的注意事項(xiàng)：1.開(kāi)箱后檢查機(jī)器外觀、艙門(mén)、流量計(jì)等是否有碰撞損壞或變...

WABASH平板硫化機(jī)為實(shí)現(xiàn)好的性能、偏差而設(shè)計(jì)，WABASH所有的壓力機(jī)具有用戶(hù)友好操作界面及大可靠性。具備大型鋼板的壓力機(jī)同樣有超大臺(tái)面，使偏差小化，這樣提高了部件的質(zhì)量。與柱塞式液壓缸并用，一體式液壓系統(tǒng)保證了快速的壓機(jī)閉合，慢速閉合段。當(dāng)考慮需要短的循環(huán)時(shí)間、高模壓及溫控時(shí)，這種配置是理想的復(fù)合材料壓成型應(yīng)用設(shè)備。WABASH平板硫化機(jī)的操作方法：1、按模具尺寸和規(guī)定的單位壓力調(diào)整壓力表，嚴(yán)禁超壓硫化。2、嚴(yán)禁在平板中積壓不平的板材。3、用硫化板切取試樣時(shí)必須墊好保護(hù)...

NXQ4006光刻機(jī)的工作原理是通過(guò)一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過(guò)畫(huà)著線(xiàn)路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線(xiàn)路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。NXQ4006光刻機(jī)在操作中應(yīng)該要注意以下幾點(diǎn)：1、進(jìn)入機(jī)倉(cāng)檢查或維修必須切斷電源，掛上警示牌并與中控。2、檢修或檢查時(shí)必須使用36V以下照明。3、必須經(jīng)常監(jiān)視機(jī)器運(yùn)轉(zhuǎn)情況...

EDC-650顯影機(jī)是指用還原劑把軟片或印版上經(jīng)過(guò)曝光形成的潛影顯現(xiàn)出來(lái)的過(guò)程。PS版的顯影則是在印版圖文顯現(xiàn)出來(lái)的同時(shí)，獲得滿(mǎn)足印刷要求的印刷版面和版面性能。顯影機(jī)是將曬制好的印版通過(guò)半自動(dòng)和全自動(dòng)的程序?qū)@影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性部分或全部完成的印刷處理設(shè)備。EDC-650顯影機(jī)維護(hù)保養(yǎng)1、常清潔并在需要的情況下進(jìn)行更換(其壓力應(yīng)該定期加以檢查)。如果需要，用水和新鮮的顯影液清洗輥?zhàn)印?、根據(jù)制造商的建議經(jīng)常檢查和更換過(guò)濾器。過(guò)濾器都是一樣的"是一個(gè)錯(cuò)誤的概念，對(duì)...