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    當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  等離子清洗機(jī)  >  STAR系列等離子清洗機(jī)  >  PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機(jī)

    等離子刻蝕機(jī)

    簡要描述:PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。

    • 產(chǎn)品型號(hào):PlasmaStar 200/200 RIE
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2024-05-16
    • 訪  問  量:5469

    詳細(xì)介紹

    型號(hào): 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 200/200RIE

    產(chǎn)地: 美國

    品牌: Axic

    環(huán)球供應(yīng),本地服務(wù)!MYCRO專業(yè)為您提供實(shí)驗(yàn)室RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)設(shè)備,*的技術(shù)服務(wù)及售后,MYCRO值得您的的信賴!

    技術(shù)規(guī)格:

    型號(hào)

    PlasmaStar  100

    PlasmaStar

    100RIE

    PlasmaStar 200

    PlasmaStar 200RIE

    艙體尺寸

    直徑254×深度356mm

    直徑200×深度280mm

    305×高305×深406mm

    305 ×高200×深406mm

    艙體材質(zhì)

    標(biāo)配為陽極氧化鋁艙體

    常用氣體

    空氣,氧氣,氫氣,氬氣,氮?dú)猓?/span>CF4,SF6等和其他混合氣體

    氣路控制

    標(biāo)配2MFCPlasmaStar  100多可選配4路,

    標(biāo)配2MFC,PlasmaStar  200多可選配5路;

    控制系統(tǒng)

    電阻觸摸屏操作界面

    程序控制

    PC觸屏控制,可編程序,無線存儲(chǔ)數(shù)據(jù)

    射頻頻率

    13.56 MHz

    射頻功率

    0~600W瓦之間距連續(xù)可調(diào),自動(dòng)匹配

    0~1000W瓦之間距連續(xù)可調(diào),自動(dòng)匹配

    電極設(shè)計(jì)

    標(biāo)準(zhǔn)圓柱形籠式電極;

    標(biāo)準(zhǔn)圓柱形籠式電極;

    可選交替多層托盤電極;

    可選RIE平面處理水冷平板電極

    設(shè)備尺寸

     800 x 850 x 525mm;

    1033 x 850 x 635mm;

     

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