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    當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  掩膜曝光光刻機(jī)  >  NXQ系列  >  NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機(jī)

    NXQ Mask Alignment光刻機(jī)

    簡要描述:MYCRO*美國恩科優(yōu)NXQ Mask Alignment光刻機(jī),是quanqiu*的光刻系統(tǒng),在光刻領(lǐng)域有超過35年的經(jīng)驗,quanqiu售出1000多套設(shè)備,為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

    • 產(chǎn)品型號:NXQ4000系列
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時間:2024-05-16
    • 訪  問  量:4688

    詳細(xì)介紹

     恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中,NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),穩(wěn)定的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用。

    二、技術(shù)參數(shù):

    1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片(支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計);

    2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

    3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

    4、分辨率:優(yōu)于0.5um;

    5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

    6、出射光強(qiáng)范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

    7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式;

    8、曝光時間:0.1~999.9s;

    9、對準(zhǔn)精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器,對準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi);

    10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器);

    11、光強(qiáng)均勻性Uniformity:

    <±1% over 2” 區(qū)域;

    <±2% over 4” 區(qū)域;

    <±3% over 6” 區(qū)域;

    12、雙面光刻:具備背面紅外對準(zhǔn)(IR BSA)和光學(xué)背面對準(zhǔn)(OBS BSA),雙面對準(zhǔn)精度≤2μm;

    13、電源:高靈敏度光強(qiáng)可控電源。

    可選型號:

    NXQ400-6  

    NXQ400-8

    NXQ800-6

    NXQ8006 Sapphire

    NXQ800-8

    三、產(chǎn)品特點:

    可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計;

    高清晰彩色雙CCD鏡頭采用*分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計);雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

    高清彩色雙顯示屏;

    全新氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計,高jinzhun,低磨損,無需售后維護(hù)的;

    具有自動執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償,并在找平后自動定位功能;

    操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

    操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計;

    采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有*對準(zhǔn)亮度;

    采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);

    抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計;

    帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器;

    全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度;

    設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性超高;

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