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    當(dāng)前位置:首頁(yè)   >  產(chǎn)品中心  >    >    >  AT410原子層沉積

    原子層沉積

    簡(jiǎn)要描述:占地面積小的桌面系統(tǒng)(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)
    具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。
    4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。
    3 種有機(jī)金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應(yīng)物。
    整個(gè)加熱管線(從前體到腔室)。
    高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式
    全鋁(半導(dǎo)體級(jí))腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C

    • 產(chǎn)品型號(hào):AT410
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2024-05-17
    • 訪  問  量:715

    產(chǎn)品分類

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    詳細(xì)介紹

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      占地面積小的桌面系統(tǒng),兼容無(wú)塵室。

    • 占地面積小的桌面系統(tǒng)(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)

    • 具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。

    • 4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。

    • 3 種有機(jī)金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應(yīng)物。

    • 整個(gè)加熱管線(從前體到腔室)。

    • 高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式

    • 全鋁(半導(dǎo)體級(jí))腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C

    • 7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無(wú)需 PC)

    • 包括終身軟件升級(jí)

    • 1 年保修(包括零件)

    • AT610

    • 全鋁(半導(dǎo)體級(jí))腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C

    • 具有超快 MFC 的高溫半導(dǎo)體級(jí)快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。

    • 6″ 圓形卡盤(7″ 方形)可定制為更小的尺寸或其他形狀(11 毫米高)。

    • 流線型腔體設(shè)計(jì),腔體體積小

    • 3 種有機(jī)金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應(yīng)物。

      • 前體可以加熱到 150°C。

    • 整個(gè)加熱管線(從前體到腔室)。

    • 簡(jiǎn)單的系統(tǒng)維護(hù)和市場(chǎng)上的公用事業(yè)和前體使用

    • 高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式

    • 7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無(wú)需 PC)

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