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    當(dāng)前位置:首頁(yè)   >  產(chǎn)品中心  >  紫外掩膜曝光系統(tǒng)  >  UV-KUB2  >  UV-KUB2UV-LED紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    UV-LED紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    簡(jiǎn)要描述:我們?cè)贒ilase 直接激光寫(xiě)入光刻技術(shù)方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統(tǒng)。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩膜系統(tǒng),具有 365nm 的可用光源。 這是一款緊湊型的桌面系統(tǒng),能夠曝光最大直徑為 4“ 或 6“ 的晶圓。

    • 產(chǎn)品型號(hào):UV-KUB2
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2024-05-17
    • 訪  問(wèn)  量:2065

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    詳細(xì)介紹

    用于軟光刻工藝,緊湊的桌面系統(tǒng)

    365nm +/- 5nm 處*單色曝光

    可處理4英寸或6英寸晶圓

    提供硬接觸和軟接觸模式 

    與所有光刻膠兼容

    分辨率:1µm

     

    我們?cè)?/span>Dilase 直接激光寫(xiě)入光刻技術(shù)方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn),因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統(tǒng)。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩系統(tǒng),具有 365nm 的可用光源。 這是一緊湊的桌面系統(tǒng),能夠曝光最大直徑為 4" 6" 的晶圓。 UV-KUB 系統(tǒng)與硬(物理)接觸或軟(接近)接觸工藝兼容,并具有可變掩到基板距離控制的特點(diǎn)。由觸摸屏控制,UV-KUB 2通過(guò)*封閉的曝光保證安全。由于它的密封配置,該設(shè)備不需要安裝在潔凈室中。

     

    技術(shù)突破:

    1、高質(zhì)量準(zhǔn)直器

    · 發(fā)散角小于2°,保證了在厚層上實(shí)現(xiàn)分辨率低至 1µm和邊緣垂直度極 jia的圖案。

    · 這種高質(zhì)量的準(zhǔn)直允許在不需要真空接觸模式的情況下達(dá)到微米級(jí)的分辨率。

    2LED技術(shù)

    ·完 mei的單色曝光光源

    ·冷紫外線源,防止不良熱效應(yīng)

    ·可以在連續(xù)或脈沖模式下運(yùn)行

    ·壽命長(zhǎng):uv-led光源不屬于消耗品

     

    特征

    整個(gè)工作表面上的完 mei單色曝光光源:更高的固化效率

    低溫紫外線照射條件和基板環(huán)境的實(shí)時(shí)原位溫度控制:在整個(gè)表面上提供均勻的照射,從而防止不良的熱效應(yīng)

    壽命長(zhǎng)(基于 LED 系統(tǒng)):> 10 000 小時(shí)有效使用

    用戶友好型觸摸屏界面,可設(shè)置曝光循環(huán)編程

    提供連續(xù)或循環(huán)曝光模式

    無(wú)需預(yù)熱時(shí)間

    紫外線源強(qiáng)度調(diào)節(jié)的計(jì)算機(jī)控制,很直觀

    紫外線照射室*密封:保證用戶安全

    自動(dòng)晶圓裝卸系統(tǒng)

    低消耗

     

    應(yīng)用范圍:

    UV-KUB 2 系統(tǒng)非常適合實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)的廣泛應(yīng)用,涉及微流體、光學(xué)、生物技術(shù)、微技術(shù)、需要 1 個(gè)掩層的光刻工藝、晶圓鍵合、簡(jiǎn)單層或粘合劑固化、連接、組裝和生物 或細(xì)胞培養(yǎng)。

     

    技術(shù)參數(shù):

    分辨率

    1µm

    發(fā)散角

    2°

    可編程周期數(shù)

    10

    曝光周期(連續(xù)/不連續(xù))

    1 秒到 1 小時(shí)

    接觸模式

    硬(物理)接觸或軟(接近)接觸

     

    UV-LED光源:

    波長(zhǎng)

    365nm +/- 5nm

    均勻曝光

    +/- 5%

    LED的壽命

    >10000小時(shí)

     

    工作處理表面:

    處理表面

    4英寸或6英寸晶圓

    曝光期間的基板預(yù)熱

    1

    兼容光刻膠

    SU8、Shipley、AZ Resist、K-CL 抗蝕劑

     

    其他參數(shù):

    ·尺寸260(L)x 260(W)x 260(H)毫米

    ·重量8,2千克/18

    ·彩色觸摸屏:5,7英寸

    ·功率密度:35 mW/cm2+/-10%

    ·電源:100 v/240 V-50 Hz/60 Hz

    ·功率/消耗量180 W

    ·膜版與晶之間的距離控制:10 µm

    ·全版曝光:6mm

    ·基片厚度+層數(shù):最大2mm


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