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    模具矩陣擴(kuò)展器

    簡(jiǎn)要描述:DME-220 專(zhuān)為切割后的晶圓擴(kuò)展而設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)一致的芯片分離距離。晶圓擴(kuò)展使拾取操作更容易并防止邊緣碎裂。

    • 產(chǎn)品型號(hào):DME-220
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2024-05-17
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:875

    詳細(xì)介紹

    模具矩陣擴(kuò)展器 DME-220


    DME-220 專(zhuān)為切割后的晶圓擴(kuò)展而設(shè)計(jì),以實(shí)現(xiàn)一致的芯片分離距離。晶圓擴(kuò)展使拾取操作更容易并防止邊緣碎裂。

     

    產(chǎn)品特征:

    · 處理最大 8" 的晶圓

    · 可調(diào) 75 mm 行程的電機(jī)驅(qū)動(dòng)柱塞

    · 可調(diào)節(jié)沖頭速度

    · 均勻的晶圓向各個(gè)方向擴(kuò)展

    · 電動(dòng)切膜系統(tǒng)

    · 工作臺(tái)加熱至 75

    · 簡(jiǎn)單的操作和維護(hù)

     

    技術(shù)參數(shù):

    晶圓最大尺寸

    8"

    柱塞最大行程

    75 mm

    工作臺(tái)最高溫度

    75 ℃

    電源電壓

    230VAC 50Hz 10A

    尺寸

    540x380x180 mm

    重量

    45 kg

     

    主營(yíng)產(chǎn)品:

    Laurell勻膠機(jī)     

    Harrick等離子清洗機(jī)

    Thetametrisis膜厚儀  

    Microxact探針臺(tái)

    ALD原子層沉積系統(tǒng)

    TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機(jī)       

    Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

    Nilt納米壓印機(jī)

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)     

    Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)


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