射頻等離子體蝕刻機(jī)簡(jiǎn)介
Quorum K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器設(shè)計(jì)用于等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用。
射頻等離子體可對(duì)各種樣品和基板進(jìn)行低溫修飾。等離子體蝕刻通常僅限于半導(dǎo)體行業(yè)，因?yàn)?/span>Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體（例如CF _4） 去除硅層，以及用于使用氧氣去除光刻膠。 
等離子灰化是指使用氧氣或空氣對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行可控的低溫去除，其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEM和SEM樣品以及樣品支架。
K1050X是一款現(xiàn)代的固態(tài)RF等離子桶式反應(yīng)器，旨在滿(mǎn)足廣泛多樣的等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清洗應(yīng)用的研發(fā)和小批量生產(chǎn)的需求。
等離子刻蝕機(jī)
主要特征

• 用于RF等離子蝕刻，灰化和清潔工藝
• 抽屜式樣品臺(tái)-輕松便捷地取放樣品
• 微控制器：操作員*可編程-操作簡(jiǎn)便，靈活
• 全自動(dòng)操作
• 現(xiàn)代固態(tài)100 W 13.56 MHz射頻電源-堅(jiān)固可靠
• 兩個(gè)氣體流量計(jì)-允許準(zhǔn)確控制和混合工藝氣體，特別適用于等離子蝕刻工藝
• 通風(fēng)孔控制-*小的樣品干擾-特別適用于精細(xì)的等離子體灰化樣品
• 提供渦輪分子泵送版本（K1050XT）

射頻等離子體蝕刻機(jī)產(chǎn)品描述

K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，可以承受大量使用-每天24小時(shí)處理某些等離子灰化計(jì)劃-具有微處理器控制和自動(dòng)操作功能，并具有耐用性和操作簡(jiǎn)便性。各向同性（各個(gè)方向）的桶式系統(tǒng)等離子刻蝕或等離子灰化，適用于廣泛的應(yīng)用。

K1050X使用低壓射頻感應(yīng)產(chǎn)生的氣體放電來(lái)以柔和，可控的方式修飾樣品表面或去除樣品材料。與替代方法相比的一個(gè)顯著優(yōu)勢(shì)是等離子蝕刻和灰化過(guò)程是干燥的（不需要濕化學(xué)藥品），并且在相對(duì)較低的溫度下進(jìn)行。

使用多種工藝氣體，可以使用多種表面改性方法。使用氧氣（或空氣）作為工藝氣體，分子分解為化學(xué)活性原子和分子，并且所產(chǎn)生的“燃燒”產(chǎn)物可通過(guò)真空系統(tǒng)方便地在氣流中帶走。

腔室，樣品處理和氣體控制

K1050X的直徑為110毫米x 160毫米的硼硅酸鹽玻璃室水平安裝，帶有滑出式樣品抽屜和觀察窗。通過(guò)可選的50 L / m機(jī)械旋轉(zhuǎn)真空泵可以抽空腔室。反應(yīng)性氣體的進(jìn)入由兩個(gè)內(nèi)置電磁流量計(jì)控制的內(nèi)置流量計(jì)控制。
注意：對(duì)于需要避免使用硼硅酸鹽玻璃的等離子蝕刻應(yīng)用，K1050X可以配備可選的石英腔（EK4222）。

功率，調(diào)諧和真空監(jiān)控

可提供在13.56 MHz時(shí)高達(dá)100 W的RF功率，可以無(wú)限地控制RF功率并將其預(yù)設(shè)為所需值。自動(dòng)調(diào)整正向和反射功率是標(biāo)準(zhǔn)配置，并顯示在數(shù)字顯示屏上。

自動(dòng)化微處理器控制

K1050X是全自動(dòng)的。時(shí)間，功率和真空度的控制參數(shù)易于預(yù)設(shè)，并且可以在整個(gè)過(guò)程中進(jìn)行監(jiān)視和調(diào)整。
 

射頻功率的“自動(dòng)調(diào)諧”以實(shí)現(xiàn)*佳控制和重現(xiàn)性

等離子過(guò)程中，“自動(dòng)調(diào)諧”功能可確保RF功率自動(dòng)與系統(tǒng)或負(fù)載的任何變化進(jìn)行阻抗匹配。這意味著將腔室內(nèi)的RFplasma條件保持在*佳狀態(tài)-這很重要，因?yàn)樗梢约涌旆磻?yīng)時(shí)間，提高結(jié)果的可重復(fù)性，并在RF周期內(nèi)保護(hù)電源。

抽水選項(xiàng)

K1050X僅需要添加的旋轉(zhuǎn)泵。出于安全原因，當(dāng)?shù)入x子蝕刻應(yīng)用涉及使用氧氣作為工藝氣體時(shí)，出于安全原因，強(qiáng)烈建議使用Edwards RV3 Fomblinized旋轉(zhuǎn)泵（參見(jiàn)  EK3176）。在需要避免使用油基旋轉(zhuǎn)泵的地方，可以選擇干式抽氣（請(qǐng)參閱：訂購(gòu)信息）。

內(nèi)置渦輪分子泵浦的K1050XT RF等離子蝕刻機(jī)/灰砂機(jī)/清潔器

對(duì)于需要更清潔真空環(huán)境的等離子蝕刻和等離子清潔應(yīng)用，K1050XT具有內(nèi)置的渦輪分子泵
 
射頻等離子體的應(yīng)用
等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用多種多樣-以下是一些示例：

• 使用等離子灰化制備技術(shù)  檢測(cè)石棉和人造礦物纖維及石棉
• 光刻膠和外延層的等離子蝕刻（去除）
• 有機(jī)材料（例如環(huán)氧樹(shù)脂，過(guò)濾器，食品等）的低溫等離子灰化
• 塑料的表面處理，實(shí)現(xiàn)了從疏水到親水的轉(zhuǎn)化
• 我改善了塑料的油漆和上墨特性
• 用于SEM和TEM檢查的有機(jī)樣品的等離子蝕刻和等離子灰化

SEM，TEM和SPM部分Plasma清洗