Quorum臨界點干燥儀

K850臨界點干燥機是我們產品系列中的較新產品，它具有垂直腔室和內置的加熱和冷卻功能。較大的K850WM  型號是為半導體應用設計的，將干燥6英寸的晶片。

K850臨界點干燥機兼具多功能性和易操作性。內置的熱電加熱和絕熱冷卻可實現準確的溫度控制。垂直壓力腔（直徑32毫米x 47毫米）有一個側面觀察口，可在填充過程中清楚地看到液體彎月面。電磁攪拌器可確保在過程流體的較好混合和交換。

主要特征

• 帶有頂部填充和底部排放的垂直腔
• 側面觀察口-良好的視野
• 內置絕熱冷卻和熱電加熱-準確的溫度控制
• 精細控制的針閥壓力降低-準確的減壓控制避免了壓力釋放不受控制對標本的潛在損害
• 內置磁力攪拌器-增強了溶劑交換
• 帶有安全保險開關的壓力監(jiān)控，用于過壓

K850臨界點干燥機配有熱電加熱和絕熱冷卻，在加熱過程中將溫度控制在+ 5°C冷卻和+ 35°C。這樣可以對腔室進行預冷卻，并確保準確獲得臨界點。

K850配有三個閥：流體入口，沖洗和排氣系統(tǒng)，該系統(tǒng)使用針閥在臨界點干燥過程結束時提供受控的壓力釋放。 

內置的磁力攪拌器可確保將樣品與循環(huán)液充分混合。

標本架

標準樣品架具有12個單獨的孔（直徑8毫米x高8毫米），可輕松交換和轉移到K850。對于較大的樣本，建議使用可選的EK4150散裝樣本架（單個大樣本容器）。

對于臨界點干燥，非常小的或易碎的樣品，可以使用可選的CPD800A多孔罐。

Quorum臨界點干燥儀

包含：

垂直腔室，高度32 mm，直徑47 mm，帶玻璃觀察孔和安全防護罩。

電磁攪拌器位于腔室底部下方。

可控制的絕熱冷卻和加熱，帶有數字讀數。

CO ₂  入口閥，沖洗閥和排氣系統(tǒng)以及高壓CO ₂  耦合軟管。

AL800019-1標本架。

操作手冊。