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    當(dāng)前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  納米壓印光刻機(jī)  >  NIL系列  >  PL400NIL納米壓印PL系列

    NIL納米壓印PL系列

    簡要描述:EZ Imprinting推出了一款臺式獨(dú)立NIL納米壓印PL系列系統(tǒng):PL系列400/600.
    EZImprinting是一種超高產(chǎn)率(> 99%)納米壓印光刻系統(tǒng),帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。
    該平臺提供具有微定位夾具的機(jī)械平臺,用于安裝納米壓印室,UV固化源和對準(zhǔn)顯微鏡。
    它即可以作為納米壓印系統(tǒng),也可以作為傳統(tǒng)的掩模對準(zhǔn)器,同時(shí)提供可編程的自動控制功能。

    • 產(chǎn)品型號:PL400
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2024-05-16
    • 訪  問  量:2740

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    詳細(xì)介紹


    EZI UV Nanoimprint System PL400

    特點(diǎn):

    ? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

    ? 低于10納米分辨率,產(chǎn)率高達(dá)99

    ? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產(chǎn)量增大

    ? 支持各種類型的硬模和軟模

    ? 可變模具和基材尺寸,靈活方便

    ? 可編程PLC,通過自定義參數(shù)進(jìn)行過程控制,帶觸摸屏用戶界面

    ? 對準(zhǔn)功能選項(xiàng)

    ? 多種工藝,適用于各種應(yīng)用光學(xué)器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲,生物醫(yī)學(xué)器件,半導(dǎo)體IC,化學(xué)合成和*材料等

    ? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容

    EZ Imprinting處理器參數(shù):

    基材尺寸:  4“標(biāo)準(zhǔn)(尺寸較小,形狀不規(guī)則)

    印記區(qū) :   與晶圓尺寸相同。

    模板尺寸   4”,2” and 1”

     

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