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    • TC-20TC-Wafer校準(zhǔn)儀

      TC-Wafer校準(zhǔn)儀是一款專注晶圓溫場(chǎng)均勻性測(cè)量的儀器,適配市場(chǎng)上大多數(shù)主流廠家生產(chǎn)的RTP設(shè)備。

      訪問次數(shù):392
      產(chǎn)品價(jià)格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-31
    • RTP-3S01RTP-3系列快速退火爐

      RTP-3系列快速退火爐,采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù),可實(shí)現(xiàn)對(duì)實(shí)驗(yàn)材料的快速升溫和降溫

      訪問次數(shù):432
      產(chǎn)品價(jià)格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-30
    • AS-OneAS真空快速退火爐

      AS真空快速退火爐,性能ZYUE,可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃,Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準(zhǔn)確。

      訪問次數(shù):1814
      產(chǎn)品價(jià)格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • AS-Micro真空快速退火爐

      AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準(zhǔn)確。

      訪問次數(shù):1588
      產(chǎn)品價(jià)格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • Solaris 150UV快速退火爐

      美國(guó)RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達(dá)到200mm,溫度可以達(dá)到1200攝氏度,處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進(jìn)氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。

      訪問次數(shù):1790
      產(chǎn)品價(jià)格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • Solaris Eclipse快速退火爐系統(tǒng)SS

      快速退火爐系統(tǒng)SSI是一個(gè)簡(jiǎn)單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等)。

      訪問次數(shù):1399
      產(chǎn)品價(jià)格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
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