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    • GK100桌面微型紫外光刻機

      桌面微型紫外光刻機,專為微米級圖案制作而設(shè)計,旨在保障圖形轉(zhuǎn)移精度,其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上,為操作提供了便利與精準。

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      產(chǎn)品價格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-06-13
    • M-150和P-150韓國Mask Aligner光刻機

      光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。

      訪問次數(shù):1741
      產(chǎn)品價格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • L-100和M-100韓國Mask Aligner光刻機

      光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術(shù)。

      訪問次數(shù):1644
      產(chǎn)品價格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner

      MYCRO*荷蘭光刻機(掩膜曝光光刻機Mask Aligner ),是的光刻系統(tǒng),為半導體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

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      產(chǎn)品價格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • MEMA-800光刻機Mask Aligner

      MYCRO*荷蘭光刻機(光刻機Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

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      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
    • MSMA-1200M光刻機Mask MSMA

      MYCRO*荷蘭光刻機(光刻機Mask MSMA),是的光刻系統(tǒng),為半導體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。

      訪問次數(shù):1315
      產(chǎn)品價格:面議
      廠商性質(zhì):代理商
      更新日期:2024-05-17
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