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    當(dāng)前位置:首頁(yè)  >  技術(shù)文章

    • 2019

      4-9

      目的:開(kāi)發(fā)一種快速、準(zhǔn)確的生物分子層厚度評(píng)估方法測(cè)量的方法:引入WLRS用于測(cè)量各層的厚度,評(píng)價(jià)生物分子固定在固體表面上的有效性及其與相應(yīng)生物分子的后續(xù)反應(yīng)。特別研究了兔(RgG)和小鼠γ-球蛋白(MgG)的吸附及其與互補(bǔ)抗體的反應(yīng)。通過(guò)配備有0.35nm光學(xué)分辨率的VIS-NIR光譜儀和白光鹵素?zé)舻腇R-Basic進(jìn)行測(cè)量?;迨呛穸燃s為1000nm的熱生長(zhǎng)SiO2薄膜的硅晶片。結(jié)果:在圖1中,描述了在RGG–Antigg系統(tǒng)中不同層的光譜,其中顯示了由于不同生物分子層的結(jié)...

    • 2019

      4-9

      薄膜厚度均勻性和光學(xué)特性(N&K)是集成電路和MEMS制造過(guò)程中的一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)。薄膜沉積控制可以產(chǎn)生高質(zhì)量的圖形,并確保在光刻步驟之后的器件性能。除了在半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)的步中對(duì)薄膜進(jìn)行檢查的必要性外,還需要在后階段進(jìn)行檢查,在這一階段進(jìn)行封裝(在集成電路頂部涂上一層涂層,以保護(hù)其免受物理?yè)p傷和腐蝕)。在這里,我們使用了FR-Scanner來(lái)繪制兩個(gè)商業(yè)光刻電阻的厚度圖,這兩個(gè)光刻電阻沉積在300毫米硅晶片上,用于封裝應(yīng)用。FR-Scanner是一種工具,用于自動(dòng)表征硅和其他尺寸達(dá)4...

    • 2019

      4-9

      通過(guò)白光反射光譜(WLRS)和FR映射器繪制薄膜厚度目標(biāo):在大面積上表征薄膜厚度均勻性。測(cè)量方法:采用Fr-Basic與Fr-Mapper相結(jié)合的方法,在大面積的預(yù)定點(diǎn)上快速、準(zhǔn)確地測(cè)量薄膜厚度。當(dāng)樣品固定在一個(gè)Fr-Mapper上時(shí),所有的測(cè)量都用一個(gè)Fr-Basic進(jìn)行調(diào)節(jié),使其在540-1000納米的光譜范圍內(nèi)工作。反射探頭的有效光斑直徑為0.5毫米。樣品是涂有SiO2(熱的或TEOS)和Si3N4(LPCVD)/SiO2(熱的)4英寸硅晶片。在參考測(cè)量中,使用了高反射...

    • 2019

      4-9

      鈣鈦礦廣泛用于太陽(yáng)能電池的開(kāi)發(fā)。由于這些類(lèi)型的太陽(yáng)能電池具有良好的光伏性能,因此對(duì)它們進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽(yáng)能電池性能的重要因素。特別地,人們發(fā)現(xiàn),當(dāng)鈣鈦礦的厚度小于400nm時(shí),鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度;而當(dāng)鈣鈦礦的厚度大于400nm時(shí),效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本應(yīng)用說(shuō)明中,我們使用FR工具測(cè)量鈣鈦礦薄膜的厚度。測(cè)量方法:用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜,它們位于標(biāo)準(zhǔn)ITO/...

    • 2019

      2-25

      WS1000濕法刻蝕機(jī)適用于哪些工藝行業(yè)中WS1000濕法刻蝕機(jī)是由全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備,WS1000濕法刻蝕機(jī)旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測(cè)試模塊構(gòu)造,安裝簡(jiǎn)便,易于拆卸,更便于操作者控制。WS1000濕法刻蝕機(jī)工作原理:WS1000濕法刻蝕機(jī)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮...

    • 2018

      10-29

      德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)使用過(guò)程及其結(jié)合的技術(shù)應(yīng)用德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)操作過(guò)程:人工將產(chǎn)品不停的放入流水線上,不停的傳送,直噴噴槍或旋轉(zhuǎn)噴槍不停的工作清洗產(chǎn)品表面,清洗一個(gè)產(chǎn)品大約需要12S,(清洗速度可根據(jù)流水線轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié),流水線轉(zhuǎn)速越快則效率越高)兩把風(fēng)槍清洗,故清洗一個(gè)產(chǎn)品只需要6S,提率,清洗完后自動(dòng)流出,人工取出產(chǎn)品。等離子體是在氣體受到高能量放電時(shí)產(chǎn)生的:氣體分解成電子,離子,高度活性自由基,短波紫外光子和其他激發(fā)粒子。這些物質(zhì)當(dāng)被高能量放電激發(fā)時(shí)有效...

    • 2018

      10-26

      美國(guó)Tergeo系列臺(tái)式等離子清洗機(jī)為實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門(mén)提供性價(jià)比高的小型等離子清洗設(shè)備。Tergeo-EM等離子清洗機(jī)是為SEM/TEM樣品清洗應(yīng)用而設(shè)計(jì)。它取代了標(biāo)準(zhǔn)Tergeo等離子清洗機(jī)中的石英窗,采用不銹鋼適配器,可放入兩個(gè)不同品牌的TEM樣品桿,可將SEM樣品架放置在內(nèi)部石英板上進(jìn)行清洗。特點(diǎn):1)雙等離子源設(shè)計(jì)可滿足不同樣品的要求。間接模式足夠溫和,可以處理3nm超薄多孔碳網(wǎng)格。直接模式可以足夠強(qiáng),可以去除超過(guò)幾微米厚的有機(jī)污染層。直接/浸入式清洗模式...

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